GOD PARTICLE | Novo filme ambientado no universo de Cloverfield é adiado para o final de 2017

Após ir ganhando aos poucos novidades sobre o seu elenco e ter detalhes da sua trama revelados, agora o filme God Particle também ganhou uma novidade envolvendo mudanças no calendário hollywoodiano.

GOD PARTICLE | Novo filme ambientado no universo de Cloverfield é adiado para o final de 2017Segundo informações do site Coming Soon, o projeto ambientado no universo Cloverfield e produzido por J.J. Abrams através da Bad Robot, teve o seu lançamento adiado. Antes previsto para 24 de fevereiro de 2017, agora ele chegará aos cinemas apenas em 27 de outubro do mesmo ano.

A trama gira em torno de uma estação espacial americana, que após um acidente com um acelerador de partículas, descobre que a Terra desapareceu por completo. Quando os radares da estação captam a presença de uma nave europeia, eles não entendem se isso é uma ameaça ou a solução do problema.

A “Partícula de Deus”, que é o  nome do título em inglês, é um apelido dado à teoria do físico Peter Higgs, que seria em tese a partícula elementar surgida com o Big Bang.

David Oyelowo (Nina), Gugu Mbatha-Raw (Um Homem Entre Gigantes), John Krasinski (13 Horas), Elizabeth Debicki (The Night Manager), Zhang Ziyi, Chris O’Dowd e Daniel Bruhl estão no elenco.

Oren Uziel, de The Kitchen Sink, assina o roteiro, enquanto Julius Onah (The Girl Is in Trouble) será o responsável pela direção.

Amante de filmes, séries e games, criou o Jornada Geek em 2011. Em 2012 se formou em Jornalismo pelo Centro de Ensino Superior de Juiz de Fora (CES/JF), e a partir de então passou a fazer cursos com foco em uma especialização em SEO. Atualmente é responsável por desenvolver conteúdos diários para o site com focos em textos originais e notícias sobre as produções em andamento. Considera Sons of Anarchy algo inesquecível ao lado de 24 Horas, Vikings e The Big Bang Theory. Espera ansioso por qualquer filme de herói, conseguindo viver em um mundo em que você possa amar Marvel e DC ao mesmo tempo.